制造半导体器件薄膜化学气相沉积装置A．8486.3021 B．8486.202

admin2022-08-02 24

问题制造半导体器件薄膜化学气相沉积装置A．8486.3021B．8486.2029C．8486.2021D．8486.3029

选项 A．8486.3021
B．8486.2029
C．8486.2021
D．8486.3029

答案 C

解析

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