制造半导体器件薄膜化学气相沉积装置A．8486.3021 B．8486.202

admin2022-08-02 26

问题制造半导体器件薄膜化学气相沉积装置A．8486.3021B．8486.2029C．8486.2021D．8486.3029

选项 A．8486.3021
B．8486.2029
C．8486.2021
D．8486.3029

答案 C

解析

转载请注明原文地址:https://tihaiku.com/congyezige/527006.html

本试题收录于：报关员水平测试题库报关员分类

报关员水平测试

报关员

相关试题推荐

随机试题

最新回复(0)